配合客戶使用不同光阻類型調配進而應用於IC/DRAM/NADA Flash製程中之光阻稀釋及洗邊液。

提供各種正負光阻及PI光阻使用之顯影液，其可包含三種不同基底溶劑 - TMAH base, KOH base, Solvent base

應用於IC/DRAM/Bumping製程中光阻剝離液，並與國內外供應商，技術配合開發客製化商品，以達客戶製程良率穩定。